compacto 2 polegadas magnetron plasma sputtering máquina de revestimento para filmes finos não-metálicos
vtc-2rf é um sistema de revestimento de magnetron de plasma de cabeça única de 2 "rf compacto, não metálico, principalmente filme de óxido fino. integra todos os componentes em um gabinete de suporte de piso, incluindo fonte de alimentação rf, câmara de vácuo de quartzo, bomba de vácuo, água de recirculação o chiller e o monitor de espessura de filme, etc., é um excelente e rentável revestidor para revestimento de película fina de material não condutor em r & amp; d.
especificações
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potência de entrada
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220 vac, 50 / 60hz, monofásico
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800 w (incluindo bomba)
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se a tensão for de 110 vac, um transformador de 1000 w é necessário, por favor clique na imagem da esquerda para encomendar
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fonte de energia
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1 13,5 mhz, gerador de 300 w rf com correspondência automática função é construída em gabinete e conectado a 2 "cabeça de sputtering.
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opcional: a fonte de energia DC sputtering está disponível para revestimento de material metálico
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cabeça de pulverização catódica
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um 2 "cabeças de pulverização catódica com jactos de arrefecimento a água estão incluídos e inseridos na câmara de quartzo através de um grampo rápido
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um obturador é construído no flange (operado manualmente)
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um resfriador de água de recirculação digitalmente controlado de 16 l / min é necessário para resfriamento de cabeças de pulverização de magnetron
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1 "cabeça sputtering é substituível e opcional a um custo extra
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O cabo de 148 cm RF é substituível com custo extra
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alvo de pulverização
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exigência de tamanho do alvo: 2 "diâmetro x 1/4" espessura max
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um alvo sio2 é incluído para o teste de demonstração.
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alvo cerâmico al2o3 recomendar o método de revestimento
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opcional 2 "alvos de pulverização (com placa de apoio) estão disponíveis mediante solicitação a um custo extra.
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Câmara de vácuo
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câmara de vácuo: 160 mm od x 150 mm id x 250 mm de altura. feito de quartzo de alta pureza
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flange de vedação: 165 mm de diâmetro. feito de alumínio com o-ring de silicone de alta temperatura
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tampa de malha de aço inoxidável está incluído para 100% de proteção radiação rf da câmara
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nível de vácuo: 1.0e-2 torr com bomba mecânica de estágio duplo incluída e 1.0e-5 torr com turbo
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suporte de amostra
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o porta-amostras é rotativo e pode ser aquecido em um aquecedor de cerâmica com tampa de aço inoxidável
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o tamanho do suporte da amostra: 50 mm dia. para 2 "wafer max
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velocidade de rotação é ajustável: 1 - 10 rpm para revestimento uniforme
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a temperatura do suporte é ajustável de ta a 500 ° c máx. com precisão de +/- 1,0 ° c por meio do controlador de temperatura digital.
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O suporte para amostras de aquecimento 800- 1000ºc está disponível mediante solicitação, mediante solicitação.
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A retenção de amostras de vibração opcional está disponível para revestimento de pvd de energia. (foto 3 abaixo)
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estação de bomba de vácuo
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A porta de vácuo kf25 é integrada para conexão a uma bomba de vácuo.
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é necessária uma bomba de vácuo com adaptador kf25, mas não incluída. clique na imagem para encomendar em separado.
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nível de vácuo: 1.0e-2 torr com bomba mecânica de estágio duplo e 1.0e-5 torr com a bomba de turbo
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opcional
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O sensor de espessura de quartzo de precisão é opcional e pode ser embutido na câmara para monitorar a espessura do revestimento com precisão de 0,10 Å. o laptop é necessário para corve de espessura de exibição
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dimensão total
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peso líquido
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garantia & amp; conformidade
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um ano de garantia limitada com suporte vitalício
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certificado ce
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A certificação nrtl ou csa está disponível mediante solicitação e por um custo extra
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Notas de aplicação
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este revestidor de pulverização catódica de 2 "rf compacto é projetado para revestir filmes finos de óxido em substratos de monocristal de óxido, que geralmente não precisam de alto vácuo configurado
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por favor use & gt; 5n pureza ar gás para pulverização de plasma
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Para obter a melhor resistência de aderência de filme-substrato, limpe a superfície do substrato antes do revestimento:
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limpeza ultrassônica com os seguintes banhos sequenciais - (1) acetona, (2) álcool isopropílico - para remover óleo e graxa. secar o substrato com n2, depois cozer a quente em vácuo para remover a umidade absorvida
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limpeza de plasma pode ser necessária para desbaste de superfície, ativação de ligações químicas de superfície ou remoção adicional de contaminação
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uma fina camada de buffer (~ 5 nm), como cr, ti, mo, ta, poderia ser aplicada para melhorar a aderência de metais e ligas
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Para o melhor desempenho, os alvos não condutores devem ser instalados com uma placa de apoio de cobre. por favor, consulte o vídeo de instruções abaixo (# 3) para ligação alvo
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tmax usa os revestidores têm revestido com sucesso zno al 2 o 3 substrato a 500 ° c (perfil xrd na foto 5)
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não use água da torneira no resfriador de água. use di água, água destilada ou aditivos anticorrosivos como colante.
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pacote:
1 pacote exportado padrão: proteção anticollision interna, embalagem externa da caixa de madeira da exportação
2 transporte por expresso, por via aérea, por mar de acordo com os requisitos dos clientes para encontrar a maneira mais adequada.
3 responsável pelos danos durante o processo de envio, irá alterar a parte danificada para você de graça.
tempo de entrega : 15-20 dias após ter confirmado o pedido, a data de entrega detalhada deve ser decidida de acordo com
época de produção e quantidade da ordem.
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